译文:伪原创:奥普光电在其互动平台上表示,他们已经开始进行高精度光栅刻划的研究工作,并且已经完成了理论验证。预计他们能够在年底之前完成高精度(±1um)光栅尺的正式样机。同时,他们还在进行超精尺的研发工作,目前处于原理样机开发阶段。