根据奥普光电在7月22日在互动平台上的表示，公司已经开始了高精度光栅刻划的研究工作，并完成了理论验证。预计在年底之前，将完成高精度（±1um）光栅尺的正式样机。同时，奥普光电还在进行超精尺的研发工作，目前仍处于原理样机开发阶段。
