伪原创:中微公司在公众号上宣布,他们在对美商科林研发股份公司提起的商业秘密侵权案件中取得了二审胜利。上海市高级人民法院于2023年6月30日做出终审判决,要求科林研发销毁非法获取的与中微公司等离子刻蚀机相关的技术文件和照片。法院还禁止科林研发及被告个人披露、使用或允许他人使用中微公司的专有技术秘密。此外,法院还要求科林研发支付赔偿金和法律费用作为商业秘密侵权的补偿。