28纳米工艺制程是目前较为成熟的制程，具备较高的集成度和性能表现。此次全覆盖意味着中电科电子装备集团在离子注入装备方面的技术实力已经达到了国际领先水平。这不仅有助于我国集成电路产业的自主创新能力的提升，也为我国在成熟制程领域的产业安全提供了有力保障。
近年来，随着我国集成电路产业的快速发展，对于工艺制程的要求也越来越高。尤其是在核心制程方面，我国一直依赖进口设备。中电科电子装备集团的技术突破，不仅填补了国内离子注入装备的空白，也减少了我国在核心制程方面的对外依赖，提升了我国在集成电路制造领域的技术实力和竞争力。
下一步，中电科电子装备集团将继续加强研发投入，不断提升离子注入装备的技术水平和产品性能，助力我国集成电路制造业向更高层次迈进。同时，该集团还将加强与其他相关企业和科研机构的合作，共同推进我国集成电路产业的发展，为我国科技实力的提升做出更大贡献。
